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Während des Praktikums können Einblicke
in Transportmessungen an Halbleiterstrukturen gewonnen werden.
Im Rahmen des Praktikums besteht die Möglichkeit unter
Anleitung Messungen in einem He-3 Kryostaten bzw. in einem
He-3/He-4 Mischkryostaten durchzuführen. Die genaue Funktionsweise
der Kryostaten kann dabei kennengelernt werden. Wenn möglich
können die Messungen auch an eignen Proben vorgenommen
werden.
Ansprechpartner: Thomas Schäpers
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SQUID Magnetometrie (Jülich)
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Bei der Charakterisierung von verdünnten
magnetischen Halbleitern sind SQUID (superconducting quantum
interference device) Messungen von zentraler Bedeutung. Mit
Hilfe eines SQUID Magnetometers kann die Magnetisierung in
Abhängigkeit von der Temperatur und eines äußeren
Magnetfeldes ermittelt werden. Bei verdünnten magnetischen
Halbleitern ist oft die Sättigungsmagnetisierung sehr
gering. Im Rahmen des Praktiums wird deshalb insbesondere erläutert,
wie eine Messung mit hinreichender Empfindlichkeit durchgeführt
werden kann und wie Messfehler vermieden werden können.
Ansprechpartner: Vitaliy Guzenko
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GaN Molekularstrahlepitaxie (Jülich)
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Molekularstrahlepitaxie (MBE) ist eine vielseitige
Technik um dünne epitaxiale Strukturen aus Halbleitern,
Metallen oder Isolatoren zu wachsen. Im Jülicher MBE Labor
ist das Ziel optimierte GaN Schichten auf unterschiedlichen
Substraten abzuscheiden, um so Halbleiter/Ferromagnetstrukturen
für spinelektronische Anwendungen herzustellen. Im Rahmen des
Laborpraktikums werden die verschiedenen Aspekte hinsichtlich
des Wachstum von GaN Heterostrukturen erläutert.
Ansprechpartner: Raffella Calarco
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MBE und RHEED (Göttingen)
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Mittels Molekularstrahlepitaxie (MBE) werden
einkristalline Halbleiterschichten in Ultrahochvakuum (UHV)
hergestellt. Komplexe Multischichtstrukturen können auf
einem geheizten Substrat abgeschieden werden. Die Zusammensetzung,
die Dicke und die Dotierung mit fremden Stoffen können
dabei sehr genau gesteuert werden.
Während des Kurzpraktikums wird die Epitaxie von GaN in
einem hochmodernen Gen II MBE System durchgeführt.
Der Wachstumsprozeß vom GaN hängt sehr stark von den
relativen Ga und N Flüssen, die für optimales Wachstum
genau eingestellt werden müssen. Reflection High Energy Electron
Diffraction (RHEED) wird eingestzt um die Beschaffenheit der
Substratoberfläche zu untersuchen sowie um den Wachstumsprozeß
online zu kontrollieren.
Ansprechpartner: Angela Rizzi
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| Weitere Angebote folgen in Kürze ... |
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